Der variable Abschwächer / Strahlteiler 10APF2-1 ist eine Kombination aus dem Optikhalter, einem Polarisatorhalter und einem Strahlteilerhalter. SpezifikationenHalbwellenplattenhalter:   Rotationsbereich: 360 °   Skalenteilung: 2 °Optikhalter   Kippbereich:  ±7 °   Wiederholbarkeit: 30"Strahlteilerhalter:   Einstellbereich:  ±5 °   Empfindlichkeit: 10"

Variabler Abschwächer / StrahlteilerKombiniert Halbwellenplatte mit einem Polarisierenden StrahlteilerBeide Optiken sind einstellbarOptik muß separat bestellt werden Die variable Attentuator / Beamsplitter 10APF-Einheiten ermöglichen die Montage einer Halbwellenplatte und eines polarisierenden Strahlteilers. Das Ergebnis ist ein kombinierter variabler Abschwächer / Strahlteiler. Um den Strahl abzuschwächen, können Sie die Wellenplatte um 360 ° drehen. 10APF3 ist eine modifizierte 5APH79T Halterung. Wenn es auf dem M4-Loch in der Plattform montiert ist, wird der Drehpunkt anstelle der Plattform an der Basis angebracht. Der Strahlteiler wird über einen Adapter an der Basis montiert. Der Schwenkbereich des Strahlteiler innerhalb beträgt ± 2,5 ° .  SpezifikationenWellenplattenhalterung    Rotationsbereich: 360°    Skalenteilung: 2°Strahlteilerhalterung    Achsverkippung: ± 2,5°    Empfindlichkeit: 3 arcsec    Rotationsbereich: 360°

Variabler Abschwächer / StrahlteilerKombiniert Halbwellenplatte mit einem Polarisierenden StrahlteilerMit Adaterhalterung für PlattenBeide Optiken sind einstellbarOptik muß separat bestellt werden Die variable Attentuator / Beamsplitter 10APF-Einheiten ermöglichen die Montage einer Halbwellenplatte und eines polarisierenden Strahlteilers. Das Ergebnis ist ein kombinierter variabler Abschwächer / Strahlteiler. Um den Strahl abzuschwächen, können Sie die Wellenplatte um 360 ° drehen. 10APF3 ist eine modifizierte 5APH79T Halterung. Wenn es auf dem M4-Loch in der Plattform montiert ist, wird der Drehpunkt anstelle der Plattform an der Basis angebracht. Der Strahlteiler wird über einen Adapter an der Basis montiert. Der Schwenkbereich des Strahlteiler innerhalb beträgt ± 2,5 ° .  SpezifikationenWellenplattenhalterung    Rotationsbereich: 360°    Skalenteilung: 2°Beamsplitter cube    Achsverkippung: ± 2,5°    Empfindlichkeit: 3 arcsec    Rotationsbereich: 360° 

Strahlabschwächersystem für 355nm  Teilt den Laserstrahl in zwei Strahlen mit manuell einstellbarem IntensitätsverhältnisPraktischer 90 ° -Winkel zwischen reflektierten und transmittierten StrahlenVernachlässigbare StrahlabweichungHohe BandbreiteGroßer dynamischer Bereich Kontinuierlich variabler Abschwächer / Strahlteiler für bis zu 100 fs Laserpulse. Dieser variable Abschwächer / Strahlteiler besteht aus 2 Hochleistungs-Polarisationsoptikkomponenten, die in den opto-mechanischen Präzisionshalter 5APH79T-1 eingesetzt sind. Der variable Abschwächer / Strahlteiler enthält einen leistungsstarken Polarisations-Strahlteiler, der s-polarisiertes Licht 90 reflektiert und p-polarisiertes Licht durchläßt.Durch eine drehbare ? / 2-Quartz-Wellenplatte kann das Intensitätsverhältnis dieser zwei Strahlen ohne Veränderung anderer Strahlparameter kontinuierlich variiert werden. P-Polarisation in Transmission bzw. s-Polarisation in Reflexion. SpezifikationenStrahlabweichung: 40 µrad, im Mittel Schadensschwelle: 200 mJ/cm2 bei geplusten 1064 nm, typisch Antireflection Coating: R < 0.25% allen Eintritts- und Austrittsflächen Zeit Dispersion: t >100 fs für Laserpulse Kontrast: Ts/Tp < 1:1000

Strahlabschwächersystem für 532nm  Teilt den Laserstrahl in zwei Strahlen mit manuell einstellbarem IntensitätsverhältnisPraktischer 90 ° -Winkel zwischen reflektierten und transmittierten StrahlenVernachlässigbare StrahlabweichungHohe BandbreiteGroßer dynamischer Bereich Kontinuierlich variabler Abschwächer / Strahlteiler für bis zu 100 fs Laserpulse. Dieser variable Abschwächer / Strahlteiler besteht aus 2 Hochleistungs-Polarisationsoptikkomponenten, die in den opto-mechanischen Präzisionshalter 5APH79T-1 eingesetzt sind. Der variable Abschwächer / Strahlteiler enthält einen leistungsstarken Polarisations-Strahlteiler, der s-polarisiertes Licht 90 reflektiert und p-polarisiertes Licht durchläßt.Durch eine drehbare ? / 2-Quartz-Wellenplatte kann das Intensitätsverhältnis dieser zwei Strahlen ohne Veränderung anderer Strahlparameter kontinuierlich variiert werden. P-Polarisation in Transmission bzw. s-Polarisation in Reflexion. SpezifikationenStrahlabweichung: 40 µrad, im Mittel Schadensschwelle: 200 mJ/cm2 bei geplusten 1064 nm, typisch Antireflection Coating: R < 0.25% allen Eintritts- und Austrittsflächen Zeit Dispersion: t >100 fs für Laserpulse Kontrast: Ts/Tp < 1:1000

Strahlabschwächersystem für 650nm  Teilt den Laserstrahl in zwei Strahlen mit manuell einstellbarem IntensitätsverhältnisPraktischer 90 ° -Winkel zwischen reflektierten und transmittierten StrahlenVernachlässigbare StrahlabweichungHohe BandbreiteGroßer dynamischer Bereich Kontinuierlich variabler Abschwächer / Strahlteiler für bis zu 100 fs Laserpulse. Dieser variable Abschwächer / Strahlteiler besteht aus 2 Hochleistungs-Polarisationsoptikkomponenten, die in den opto-mechanischen Präzisionshalter 5APH79T-1 eingesetzt sind. Der variable Abschwächer / Strahlteiler enthält einen leistungsstarken Polarisations-Strahlteiler, der s-polarisiertes Licht 90 reflektiert und p-polarisiertes Licht durchläßt.Durch eine drehbare ? / 2-Quartz-Wellenplatte kann das Intensitätsverhältnis dieser zwei Strahlen ohne Veränderung anderer Strahlparameter kontinuierlich variiert werden. P-Polarisation in Transmission bzw. s-Polarisation in Reflexion. SpezifikationenStrahlabweichung: 40 µrad, im Mittel Schadensschwelle: 200 mJ/cm2 bei geplusten 1064 nm, typisch Antireflection Coating: R < 0.25% allen Eintritts- und Austrittsflächen Zeit Dispersion: t >100 fs für Laserpulse Kontrast: Ts/Tp < 1:1000

Variabler Abschwächer/Strahlteiler für femtosekunden Laserpulse Teilt den Laserstrahl in zwei parallele Strahlen mit manuell einstellbarem IntensitätsverhältnisGeringe Dispersion für Femtosekunden- und HochenergielaserpulseGroßer dynamischer BereichVernachlässigbare StrahlabweichungHohe optische Schadensschwelle Dieser variable Abschwächer / Strahlteiler besteht aus 2 Hochleistungs-Polarisationsoptikkomponenten, die in den opto-mechanischen Präzisions-Halter 10APF3-1 eingesetzt sind. Der variable Abschwächer / Strahlteiler enthält zwei Hochleistungs-Brewster-Polarisatoren, die s-polarisiertes Licht reflektieren und dabei p-polarisiertes Licht durchlassen. Diese zwei Brewster-Polarisatoren sind in speziellen optomechanischen Adaptern untergebracht.Diese Adapter die Verwendungr runde Formen oder rechteckiger Brewster-Polarisatoren.Durch die Platzierung einer rotierbaren ? / 2 - Quarzwellenplatte in den einfallenden polarisierten Laserstrahl kann das Intensitätsverhältnis der zwei Ausgangsstrahlen kann ohne Veränderung anderer Strahlparameter kontinuierlich variiert werden.. Die P-Polarisation für Durchgang und S-Polarisation in der Reflektion. SpezifikationenZentrale Wellenlänge: 355 nm  (Ausführungen für 266,  532, 780, 800, 1064 nm und weitere sind lieferbar)Bandbreite: ± 10 nmStrahlversatz: 40 µradApertur: 15 mmSchadensschwelle: 5 J/cm2 bei gepulsten 1064 nm, typischAntireflexbeschichtung: R < 0.25% auf allen Eintritts- und AustrittsflächenZeit-Dispersion: t < 4fs for Ti:Sapphire LaserpulsePolarisationskontrast: >500:1

Variabler Abschwächer/Strahlteiler für femtosekunden Laserpulse Teilt den Laserstrahl in zwei parallele Strahlen mit manuell einstellbarem IntensitätsverhältnisGeringe Dispersion für Femtosekunden- und HochenergielaserpulseGroßer dynamischer BereichVernachlässigbare StrahlabweichungHohe optische Schadensschwelle Dieser variable Abschwächer / Strahlteiler besteht aus 2 Hochleistungs-Polarisationsoptikkomponenten, die in den opto-mechanischen Präzisions-Halter 10APF3-1 eingesetzt sind. Der variable Abschwächer / Strahlteiler enthält zwei Hochleistungs-Brewster-Polarisatoren, die s-polarisiertes Licht reflektieren und dabei p-polarisiertes Licht durchlassen. Diese zwei Brewster-Polarisatoren sind in speziellen optomechanischen Adaptern untergebracht.Diese Adapter die Verwendungr runde Formen oder rechteckiger Brewster-Polarisatoren.Durch die Platzierung einer rotierbaren ? / 2 - Quarzwellenplatte in den einfallenden polarisierten Laserstrahl kann das Intensitätsverhältnis der zwei Ausgangsstrahlen kann ohne Veränderung anderer Strahlparameter kontinuierlich variiert werden.. Die P-Polarisation für Durchgang und S-Polarisation in der Reflektion. SpezifikationenZentrale Wellenlänge: 800 nm  (Ausführungen für 266, 355, 532, 780, 1064 nm und weitere sind lieferbar)Bandbreite: ± 10 nmStrahlversatz: 40 µradApertur: 15 mmSchadensschwelle: 5 J/cm2 bei gepulsten 1064 nm, typischAntireflexbeschichtung: R < 0.25% auf allen Eintritts- und AustrittsflächenZeit-Dispersion: t < 4fs for Ti:Sapphire LaserpulsePolarisationskontrast: >500:1

Strahlfalle (Beam Dump) Das Design gewährleistet das keine Rückreflexionen entstehen, selbst wenn die nicht-reflektierende Beschichtung durch Impulse hoher Intensität beschädigt wird. Für Dauerstrich (CW) oder gepulste LaserFür Leistungen bis 50 WWellenlängenbereich:  0,1 - 30 µmGewicht: 0,57 kg

Mini Beam Dump 10BD02 Für Dauerstrich (CW) oder gepulste LaserLeistungen bis 5 WattWellenlängenbereich  0,1 bis 30 µm

Wassergekühlte Strahlfalle (beam dump)Das Design gewährleistet keine Rückreflexion selbst wenn die nicht-reflektierende Beschichtung durch Impulse hoher Intensität beschädigt wird.für Dauerstrich (CW) und gepulste LaserStrahlbreite bis 2 Zoll (5,08 cm)Für Leistungen bis 1 kWWellenbereich: 0,1 to 30 µm.Gewicht: 1,2 kgM6 Gewinde an der Rückseite zur Montage

Beam Expander 2.5X ratioExpansionsverhältnis 2,5X oder 5XLinsen entspiegeltFokussierbereich: 2 m bis unendlichHochleistungs-Laserstrahl-ExpansionDie Beam Expander 10BE01 haben zwei Linsen und sind auf eine Mindestentfernung von 2 m fokussierbar. In einem solchen Typ können Strahlexpanderaberrationen nur in einem Punkt vollständig kompensiert werden. Je nach Kundenanforderung und Anwendung sind die Beam Expander-Objektive anpassbar, um Aberrationen im Bereich von 2 m Fokuspunkt oder unendlich zu kompensieren. Die Beam-Expander können für jede Wellenlänge im Bereich von 450-2000 nm angepasst werden.SpezifikationenWellenlänge532 nm (oder custom)Input Apertur> 12 mmAusgangsapertur < 45 mmExpansionsverhältnis2,5XFokusbereich2 m bis unendlichMaterial:schwarz eloxiertes Aluminium 

Beam Expander 5X ratio and XY positioning-tilt systemExpansionsverhältnis 2,5X oder 5XLinsen entspiegeltFokussierbereich: 2 m bis unendlichHochleistungs-Laserstrahl-ExpansionDie Beam Expander 10BE01 haben zwei Linsen und sind auf eine Mindestentfernung von 2 m fokussierbar. In einem solchen Typ können Strahlexpanderaberrationen nur in einem Punkt vollständig kompensiert werden. Je nach Kundenanforderung und Anwendung sind die Beam Expander-Objektive anpassbar, um Aberrationen im Bereich von 2 m Fokuspunkt oder unendlich zu kompensieren. Die Beam-Expander können für jede Wellenlänge im Bereich von 450-2000 nm angepasst werden.SpezifikationenWellenlänge532 nm (oder custom)Input Apertur> 12 mmAusgangsapertur < 45 mmExpansionsverhältnis2,5XFokusbereich2 m bis unendlichXY-Positionierung                   ±5 mmKippwinkel                   ±4,5°Material:schwarz eloxiertes Aluminium

Beam Expander 5X ratioExpansionsverhältnis 2,5X oder 5XLinsen entspiegeltFokussierbereich: 2 m bis unendlichHochleistungs-Laserstrahl-ExpansionDie Beam Expander 10BE01 haben zwei Linsen und sind auf eine Mindestentfernung von 2 m fokussierbar. In einem solchen Typ können Strahlexpanderaberrationen nur in einem Punkt vollständig kompensiert werden. Je nach Kundenanforderung und Anwendung sind die Beam Expander-Objektive anpassbar, um Aberrationen im Bereich von 2 m Fokuspunkt oder unendlich zu kompensieren. Die Beam-Expander können für jede Wellenlänge im Bereich von 450-2000 nm angepasst werden.SpezifikationenWellenlänge532 nm (oder custom)Input Apertur> 12 mmAusgangsapertur < 45 mmExpansionsverhältnis5XFokusbereich2 m bis unendlichMaterial:schwarz eloxiertes Aluminium

Beam Expander 5X ratio and XY positioning-tilt systemExpansionsverhältnis 2,5X oder 5XLinsen entspiegeltFokussierbereich: 2 m bis unendlichHochleistungs-Laserstrahl-ExpansionDie Beam Expander 10BE01 haben zwei Linsen und sind auf eine Mindestentfernung von 2 m fokussierbar. In einem solchen Typ können Strahlexpanderaberrationen nur in einem Punkt vollständig kompensiert werden. Je nach Kundenanforderung und Anwendung sind die Beam Expander-Objektive anpassbar, um Aberrationen im Bereich von 2 m Fokuspunkt oder unendlich zu kompensieren. Die Beam-Expander können für jede Wellenlänge im Bereich von 450-2000 nm angepasst werden.SpezifikationenWellenlänge532 nm (oder custom)Input Apertur> 12 mmAusgangsapertur < 45 mmExpansionsverhältnis5XFokusbereich2 m bis unendlichXY-Positionierung                   ±5 mmKippwinkel                   ±4,5°Material:schwarz eloxiertes Aluminium

Fixed Magnification Laser Beam ExpanderBeam Expander mit fester Vergrößerung vom Typ Galilean sind eine ideale Lösung, um den Durchmesser Ihres Laserstrahls zu vergrößern oder zu verkleinern. Diese Beam Expander mit zwei oder drei Linsen ermöglichen eine geringe Größe und sind daher eine gute Wahl für wissenschaftliche und industrielle Anwendungen zu einem günstigen Preis.  Typische Anwendungen sind:Mikrobohren, LIDAR-Systeme, Kollimation von Laserharmonischen, Laserschneiden, Laserstrukturierung von Folien, Interferometer, Kollimation von Hochleistungslaserstrahlen usw.  Bequeme Handhabung und robuste KonstruktionComputeroptimiertes DesignAntireflexbeschichtete OptikGeringe Wellenfrontverzerrung (beugungsbegrenztes Design)  SpezifikationenExpansionsratex2Eingangsapertur10 mmAusgangsapertur18 mmLänge (ohne Kappen)70 mmGehäusedurchmesser24,4 mmGehäusematerial:AluminiumTWD?/4 p-v @ 633nm over clear apertureZerstörschwelle>8 J/cm^2 für 10 ns Pulse @ 1064 nmTransmission97%

SpezifikationenExpansionsrate: x5Eingangsapertur: 5 mmAusgangsapertur: 15 mmLänge (ohne Kappen): 60 mmGehäusedurchmesser: 24,4 mmGehäusematerial: AluminiumTWD: ?/4 p-v @ 633nm over clear apertureZerstörschwelle: >8 J/cm^2 für 10 ns Pulse @ 1064 nmTransmission: 97%